Re: [新聞] 又被美國逼!ASML將不再維修大陸DUV 中
※ 引述《s213092921 (麥靠貝)》之銘言:
: http://i.imgur.com/iAZFy2w.jpg
: 注意是國產DUV且專門生產14奈米的成熟製程光刻機
工信部公布的那個曝光機,從他參數來看就知道是成熟製程
還是乾式曝光機
工信部的規格是這樣
https://i.imgur.com/gRVsr0U.png
跟ASML的1460K對一下規格就知道
https://www.asml.com/en/products/duv-lithography-systems/twinscan-xt1460k
The TWINSCAN XT:1460K 193 nm step-and-scan system is a high-productivity,
dual-stage ArF lithography tool designed for volume 300 mm wafer production
at 65 nm resolution. The TWINSCAN XT:1460K contains a variable 0.93 NA 193 nmprojection lens with advanced lens manipulators.
improvements, the TWINSCAN XT:1460K can achieve a dedicated chuck overlay of
<= 3.5 nm and a matched machine overlay of <= 5 nm with the TOP XT:1460K
package installed.
==========================================
工信部那台規格大概就是比1460k還要差一點,1460K是2005年的設備了
這設備明顯就是以成熟製程為主要目標
製造商有人說是中國電子科技集團,這家去年還今年的確有發表曝光機
今年大陸的大基金投資方向己經轉向要大量建廠了,工信部公布這個
八成是要蓋成熟製程產線的多買國產設備
不過有一個地方要注意,大陸的國產濕式DUV很有可能真的做出來了
中國記憶體廠 2024 年投資年增逾 90%,要突破 Chip 4 聯盟限制
https://pse.is/6fb848
長江存儲也將投入 30 億美元投資擴產,比前一年增加一倍以上。
長江存儲預計將以武漢二廠為中心進行擴產,確保 NAND Flash 快閃記憶
體的產能達到每月 13 萬片的規模
==============================
長存被美國制裁後原本的二廠都停擺了,現在投30億美元擴產,除了買國產設備
沒有其他可能
NAND相較邏輯晶片比較不需要微縮下去,不用太依賴先進製程
(詳細請看 https://www.synnex-grp.com/component/tech_paper_42.html )
只有蝕刻機比較重要
去年長存己經用國產蝕刻機生產出232層NAND了
https://moptt.tw/p/Gossiping.M.1696914656.A.662
所以蝕刻機己經不是問題了,那就只有曝光機和其他設備了
現在投資擴產很有可能是全部都解決了
--
人家用國家之力打造 又不是營利公司
在台灣討論會用"光刻機"的99.99%文組或是
在學就業跟電子業半導體完全無關的大外行
理工,這種人寫出來的文百分之一百是廢文,
這種垃圾內容不用浪費生命回應
光刻機 光刻機 光刻機 然後呢?
不是說中國半導體都倒光了 說詞該統一吧
不然要說Kscan嗎
這篇寫得不錯啊,支警有什麼高見嗎?
光刻機就是支語!討厭支語就不要用光刻機!
曝光機用了10幾年 改講光刻機好不習慣
中國自己造的設備,只能說是堪用,跟精
品掛不上任何關係,連SMT這種超級成熟
的產業的中國設備真的只是便宜,但真的
很爛….還不耐用,懂得都懂
人家有NMSL 哪有差你這種
,中國在28nm完全國產不怕歐美制裁了
樓上臉被打腫還想吹落後製程.....
哪裡被打臉,另外28nm雖然落後但大多
晶片用途還是28以上
說你被打臉就是被打臉 怎麼打不知道
加油
連套刻在大陸是什麼意思都不知道就別吹
了,很難看的
12
機器都留在那裏,大不了自己拆解、逆向工程研究,自己修就好了 久了也可以發展出技術 沒有把機台收回就是大失策,這樣制裁根本不可能成功 以後機台也要改成訂閱制,時間到就把機台收回 否則只是留下完整的機器讓人家研究而已X
怎麼可能有遠端鎖 如果有我才不插網路線咧,沒網路線最好ASML有辦法遠端關機啦 神喔 真的一堆沒概念的人在那邊幻想,比寶傑還厲害。 除非客戶很笨乖乖地連線等著人家來遠端關機。 有那麼笨的嗎?13
欸不是 美國這樣搞真的沒有問題嗎? 有句話叫禍福相依 美國這樣逼中國到底 不怕中國真的做出光刻機嗎 作用力與反作用力是相等的 以前用買的就好 現在拼死也要搞研發6
2024/9/14 節錄: 《目錄》顯示,DUV光刻機為8nm以下過程,193nm的光源波長, 可精細雕琢出小於65nm的圖案。業內人士指出,DUV光刻機的6
9月11日中國工信部官方宣導推廣中國企業使用國產DUV 注意是國產DUV且專門生產14奈米的成熟製程光刻機 至於7nm以下的高階DUV光刻機,還沒有正式公開,目前還是鴨子划水低調運作,這部分成本可能較進口高一點,即使被制裁也能用國產替代,只是就成本貴了一點,但不至於完全斷炊 最後大家念茲在茲的EUV光刻機,去年2023年3月9日申請專利,今年9月10日已經申請公開專利了
26
[情報] 震撼南韓業界!美光記憶體製造技術領先三星與 SK 海力士震撼南韓業界!美光記憶體製造技術領先三星與 SK 海力士 作者 Atkinson | 發布日期 2021 年 06 月 07 日 16:40 美光執行長 Sanjay Mehrotra 於 2 日在 Computex 2021 論壇主題演講宣布,正式 量產 1α 製程 LPDDR4x DRAM,並正向 AMD 和 Acer 供應 1α 製程 DRAM,還宣布開 始量產 176 層堆疊 NAND Flash 快閃記憶體,震撼 DRAM 市佔率領先全球的南韓業界。1
Re: [新聞]美國專家建議:台灣「自毀半導體」戰略價假若大陸完全接管臺積電的設備和人才 臺積電的先進製程可以繼續維持2~3年時間 然後 就會被三星或英特爾超越 原因很簡單,臺積電完全依賴於ASML的曝光機(光刻機)還有日本的光刻膠等等。曝光機 是一直在技術演進的,屆時美國不會讓ASML輸出更先進的曝光機給大陸控制下的臺積電, 臺積電的製程當然會慢慢被三星,英特爾超越。臺積電現有的先進光刻膠如果存貨不多,
爆
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