Re: [問卦] 華為會不會做出光刻機
※ 引述 《a1e (我上了賊船了囧)》 之銘言:
: 多個光源束反射搞不定,直接加一個粒子加速器搞一個大出力射束
: 加速器周長100~150公尺,輸出EUV功率>1KW (ASML目前的EUV曝光機輸出功率是200~350w):
: 這看起來比較可行,缺點就是超大超吃電,不過做出來應該是自用為主
: 不太可能外銷,這問題好像也不是什麼大問題
:
這件事我前幾天講過,
在美國2018年前後開始遊說荷蘭不賣大陸
Euv光刻機後,大陸就開始加速EUV研發了,
原本只有一家研究所在研究EUV,之後大陸
就組織了數個研究所/大學/企業研發EUV,
而且是所有理論可行的技術方案同時研發,
為規避專利墻。
目前做出原理樣機的就至少三種,據說工程
樣機也有做出來的。
--
※ PTT 留言評論
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 27.128.110.240 (中國)
※ 文章網址:
https://www.ptt.cc/Gossiping/E.MLNFIiPHqyu8
推
他們跟台灣一樣都在片補助
推
逃不了三個問題 成本、配套、生態系
→
補助可以騙阿 至少有人是真的想做
推
中國以前也有研究可行的民主
→
只要物理學沒被封鎖 就只是時間問
→
題 除非採用西式民主 那就沒救
→
對等的就印度 印度敢跳出來說做
→
光刻機自主研發? 我是想都不敢想
推
相信中國必定成功重返榮耀
→
阿共的經濟規模跟市場足夠大
推
研發並不合成本 除非被逼到
→
行 中國一定行 集合荷蘭三星台積Intel
→
合力研發的東西 時間問題 兮兮
→
專利根本不用必 國內要用還怕什麼專利
要向全世界出口搶市場,類似於比亞迪電動汽車
推
※ 編輯: longyin (27.128.110.240 中國), 09/13/2023 10:42:24
紫外光波長+N組雙縫干涉下=極紫
推
光刻機到最後蓋爛尾樓
→
剛剛有人回文又秒刪文 狂噓產業補貼
→
美國晶片法案250億美元不也是
→
520億美元
推
中國也曾經傾全國之力發展半導體,結果做
→
不出來只好拿摩托羅拉的晶片的芯片磨掉打
→
上漢芯來騙經費,還成功騙了5年。
噓
對對對 就跟殲20一樣 都是據說
→
兩年真的搞出EUV也不要太意外
爆
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