英特爾準備接收第二套艾司摩爾EUV設備
聯合新聞網
英特爾(Intel)正準備接收第二套來自艾司摩爾(ASML)的最新高階晶片生產機器:高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)微影設備。這套先進設備價格高達3.5億歐元(3.83億美元)。
路透5日報導,英特爾執行長基辛格其實是在上周四財報視訊說明會時,就提到上述進度。但上周四美股盤後英特爾發布財報時,強調必須節約開支,隨著公告要大裁員、暫停發放股利,公司股價在當時就隨即崩了20%,第二天正常交易收盤更重挫26%。投資人忙著狂拋英特爾股票之時,沒人注意到基辛格這段談話。
英特爾去年12月開始收到第一台艾司摩爾出貨的High-NA EUV微影設備,因為機器龐大需要花多個月才能組裝完成,一切就緒後,便能夠製造新一代、更強大的電腦晶片。
根據財報說明會文字紀錄,基辛格在財報說明會上說,「第二套High-NA工具將進到我們奧勒岡州廠區」,公司的科技投資,「正在展現良好的早期跡象」。
艾司摩爾高階主管上月17日曾表示,公司開始出貨第二套High-NA設備給客戶,未說客戶是誰。High-NA順利導入市場對艾司摩爾的未來發展也非常關鍵,但購買的客戶究竟何時才會真的啟用,仍有不確定性。
目前艾司摩爾拿到的十多張High-NA設備的訂單,客戶包括台積電、英特爾、三星電子、SK海力士、美光等市場領導大廠。英特爾計劃2027年之前利用High-NA微影技術量產。台積電今年將接收一套,但沒有表明何時用於生產。
艾司摩爾公司(ASML)執行長富凱上月提到DRAM記憶晶片製造廠,可能在2025年或2026年使用High-NA設備。DRAM記憶晶片製造廠指的是三星、SK海力士、美光。
https://udn.com/news/story/6811/8143107
--
※ PTT 留言評論
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 42.77.172.214 (臺灣)
※ PTT 網址
45
[情報] ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機ASML 交貨英特爾首套 High-NA EUV 曝光機,總價逾 3 億美元 曝光機大廠 ASML 21 日宣布,已運送業界首套數值孔徑為 0.55(High-NA)極紫外線 (EUV)曝光機給英特爾。英特爾之前表示,首套 High-NA EUV 曝光機將用於學習如 何生產 Intel 18A 先進製程,有望使英特爾領先對手台積電和三星。 ASML 發言人表示,已出貨第一套 High-NA EUV 曝光機給英特爾。如 9 月宣布,機器30
Re: [新聞] 比英特爾晚5年?傳台積電2030才用最新EUV查了一下版上好像沒有相關的後續新聞, Intel在本月初開箱了這個High-NA EUV: 有報導指出需要三架波音 747 分批運送, 這台大型機器需要13個巨大的貨櫃和250個箱子才能運輸裝載。