Re: [討論] 創作時會反覆刻劃自己的作品嗎?

※ 引述《we15963 (whiteway)》之銘言：
: 當我們在創作一個作品時
: 不論是創作小說或是繪畫或是音樂
: 有時候會覺得 "這地方感覺氣氛跟表現的效果不夠強烈"
: 就會一直反覆地去重新的想像或著刻劃它
: 直到自己要的效果出來
: 或著是覺得小說的某個段落不太合理 想要重新編排它
: 但是這樣一來可能後面的東西要重新創作之類的
: 各位有創作過的(不管是創作甚麼)也有過這種經驗嗎?
: 如果重新刻畫的時候遇到有地方會變成有BUG會怎麼處理?
: 希望各位不吝指教

布蘭登山德森在他的《迷霧之子》的後記有講他怎麼創作的
他是一開始先寫過整部作品的雛型，這時候只有基本的對話
然後第二次重寫開始加入描述
第三次重寫再加入更多細節
迭代開發到最後才完成一部作品　這應該也算反覆刻劃吧

朱宥勳以前到我系上演講的時候
有推薦給我們一本書《故事造型師》
這本因為是編輯視角出發，有推薦很多寫作上需要注意的撇步或問題
告訴寫作者可以怎麼修飾自己的作品

但它也強調一件事情
你應該是先寫完之後再回來考慮這些
否則，寫到一半開始往前面修改
很容易改一改就沒力寫下去了，最後反而作品沒完成

我自己經驗的話
創作這件事情要意識到它雖然漫長而痛苦，但是是一次性的
不會跟機掰甲方一樣，前面跟你確認需求隨隨便便
後面你程式寫出來才跟你說不對　我要的不是這樣　改　扣你錢

創作是，你寫完之後作品在那裏，你就完成過關了
所以相較起來途中修改、重寫的代價就很小
因為你只要整個過程一次做完即可
撐過這段耕耘即可

所以對於這方面，偷懶交差相較起來機會成本就比較高
因為偷懶叫更好賺
僅供參考

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