[請益] PVD設備 濺鍍 材質限制
請問 各位先進
我司有一台設備現在鍍膜成分主要是鍍氮化鈦或是氮化碳薄膜。
設備功能有弧靶、柱靶、中高頻電源供應器。
如將設備把靶材更換、氣氛更換,是否可以拿來鍍透明導電膜Al2O3、AZO、ITO之類的?
設備需要做什麼修改嗎? 設備工程師說這是不可能的??? 卻回答不出原因。
是否有設備商或是有經驗的相關先進,可以請益。
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※ PTT 留言評論
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 180.148.4.23 (越南)
※ PTT 網址
噓
1.問原廠 2.你應該是買了二手機,所以不敢問原廠。
噓
自己的功課自己做
→
以小弟個人見解,要更改機台run 其他製程,並不是簡單
→
更改靶材氣體等材料就可以達成這麼簡單,以PVD來說,能
→
量(generator)、真空度(pump)、靶材純度(target)與
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氣體流量控制(MFC)、副產物的清除(scrubber),外加一些
→
細項更改,不是這麼簡單可以全部都考慮到的,半導體設
→
備之所以難就是因為他的複雜度,我們一般設備人員很難
→
有全面的資訊以及料件去改機,所以樓上的才會說找原廠,
→
除非貴司能承受改機失敗所浪費的時間與費用,如果要省費
→
用起碼也要找second source的廠商去評估吧!
噓
你不會把target裝上去試嗎?
→
會怕還敢買機器自己retrofit
噓
真的是該試一下看看效果,品質能接受不就可以了。
噓
自己的專案自己做
噓
你肯定沒念過研究所
噓
自己不會試試看?
噓
大一生?
→
484你公司老闆又在異想天開惹? QQ
→
可以
推
可以啦
推
看是反應式濺鍍還是icp的
→
遲滯曲線抓一下
噓
花錢請vendor retrofit啊 用嘴巴問機台就自己會改好了嗎
噓
DC? RF?
噓
是在反串?!
42
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