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Re: [新聞] 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米

peter080808 發表於 2024/9/15 下午5:12:16
看板HatePolitics標題Re: [新聞] 中國實現國產DUV曝光機 可生產8奈米作者
peter080808
 (peter)時間推噓 3 推:3 噓:0 →:6

晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm

這是國際主流20-15年前的水準

勉強摸得到28nm製程水準

給各位點參考

套刻nm數乘以三大概就是能做到的極限



但28nm以上的製程是嚴重過剩

要用這個對抗台韓早就折舊玩的產線喔

中國政府還拿得出大量資金搞補貼嗎？
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※ PTT 留言評論
※ 發信站: 批踢踢實業坊(ptt.cc), 來自: 42.70.201.156 (臺灣)
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UADASI 09/15 17:15就跟之前人工磨5奈米一樣，現在不得不用

→

UADASI 09/15 17:15一些關鍵字來安撫一些傻子

推

kevin190 09/15 17:19想辦法欺騙官方補助單位就好，搞不好官

→

kevin190 09/15 17:19方那些人看不懂

→

prestonia 09/15 17:20中國晶圓廠也不傻 不會買這種垃圾

推

palindromes 09/15 17:37工信部有寫照明波長193nm的

推

good5755 09/15 23:41對岸的目錄其實有兩台 一台是KrF乾式曝

→

good5755 09/15 23:41光機248nm 一台是ArF浸潤式曝光機193nm

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good5755 09/15 23:41
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